环球今热点：TMT概念爆发！富乐德、朗科科技等涨停容大感光等大涨

来源：证券时报时间：2023-05-25 01:20:25

半导体、芯片等TMT概念24日盘中震荡走高，截至发稿，富乐德、光库科技、朗科科技“20cm”涨停，容大感光涨超18%，联特科技涨约15%，同益股份、太辰光涨超10%，长光华芯、南大光电涨超9%。

消息面上，5月23日，日本经济产业省发布省令，正式出台针对23种半导体制造设备（或物项）的出口管制措施，并将于7月23日开始实施。

本次措施主要是增加了6大类23种管制物项，对华出口需申请许可。在清单内的受管制物品在向中国大陆、俄罗斯等地区出口时，需要获得日本经济产业省的许可证。清单主要针对高端半导体制造设备，尤其是特别聚焦了ArF浸没式光刻、EUV配套设备及部件、钴/钨等金属沉积、高深宽比刻蚀和硅锗刻蚀等技术指标较高、材料特殊、在先进制程有针对性应用的半导体设备品种，而光刻胶等日本优势的半导体材料则未在限制行列之中。

(资料图片)

具体这6大类23种半导体制造设备（或物项）主要包括：

1）光刻（4项）：ArF浸没式光刻机、用于EUV光刻的涂胶显影设备、用于EUV光刻的光罩护膜（清单中唯一一种非设备品种，用于EUV光罩的配套）及其生产设备。其中EUV光刻机（仅荷兰ASML提供）的采购国内长期受限，日本限制EUV配套产品没有实质影响，而ArF浸没式光刻机日本尼康有相关产品，未来需观察许可实际发放情况。

2）刻蚀（3项）：高深宽比刻蚀、硅锗刻蚀等。

3）薄膜沉积（11项）：用于钴、钨、钼、钌等金属薄膜、Contact层、Low-k等介质、掩膜版、硅和硅锗外延等沉积的PVD/CVD/ALD/EPI薄膜沉积设备。

4）热处理（1项）：用于铜、钴、钨的低压退火设备。

5）清洗（3项）：铜膜清洗、干法清洗、晶圆改性后干燥的单片湿法清洗。

6）检测（1项）：EUV光刻掩膜版检测设备。

中信证券指出，中国大陆为日本主要半导体设备厂商的重要收入来源地区之一，以日本半导体设备公司东京电子（TEL）、迪恩士（DNS）和尼康公司（Nikon）为例，三家公司2022年报（2021.4.1-2022.3.31）中国大陆客户营收占比分别为28.3%、26.2%、28.4%，均为其最大收入来源地区。本次出口限制主要针对先进半导体制造，符合先前预期。否则若日本对华成熟芯片相关的半导体设备也实际施加限制，则将会影响日本相关设备公司的营收，长期削弱日本在半导体设备领域的份额优势，同时中国本土技术生态链有望在重压下加速本土替代。

该机构表示，当下从产业安全角度，建议重点关注设备、零部件、材料、高端芯片等易“卡脖子”环节，有望获得政策推动。短期来看，建议关注日本及荷兰厂商占有领先地位的、并能够实现国产替代的设备、材料环节；长期来看，建议关注受益国产替代加速的设备、零部件、材料等各环节的相关公司。建议关注半导体设备、零部件公司。

（来源：证券时报）

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